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| 地址：留各庄镇高新技术产业园区
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| 首页>>>产品介绍 |
| 阻 垢 剂 比 较 | |||
| 其他阻垢剂 |
PWT阻垢剂 |
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| 阻垢剂类型 |
晶体修改型 |
完全阻垢型 |
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| 阻垢原理 |
等待金属沉淀微晶体生成后再通过扭曲氢键，阻止微晶体长大 |
直接阻止微晶体生成 |
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| 阻垢产物 |
大量微晶生成并覆盖于膜表面，造成反渗透膜污染隐患 |
无微晶体生成 |
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| 有效阻垢成分 |
有机线性直链型分 子，马来酸，羟基酸， 丙烯酸等 |
含磷分子或含磷多 元共聚物 |
专利性树枝状聚 合物Dendrimer |
| 有效阻垢成分原料的 来源 |
买来用于锅炉或冷却循环水阻垢的上述药 剂按一定配方配制 |
拥有世界唯一完 整生产线专利技 术自行生产合成 |
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| 由其原料合成工艺决定 生产最大浓缩倍数 |
一般为原液 |
最大8倍 |
世界唯一达到11倍 |
| 有效成分在阻垢剂中多分散性比率 |
大于1.2（总分子质量/有效阻垢分子质量） |
1.002（同前） |
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| 多分散性比率对阻垢的影响 |
较高的多分散性比率导致水中胶体以及金 |
非常低，对阻垢无影响 |
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| 与金属离子反应倾向阻垢 |
在Fe等重金属存在时有自身沉淀可能 |
有生成难溶性磷酸盐沉淀可能 |
无任何沉淀现象 |
| 在高TDS水中稳定性 |
会发生分子排列混乱现象，阻垢分散的有效性迅速降低 |
分子排列保持稳 定，阻垢性反而 增强 |
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| 其他阻垢剂 |
PWT阻垢剂 |
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| 有效阻垢成分 |
有机线性直链型分子，马来酸，羟基酸，丙烯酸等 |
含磷分子或含磷多元件共聚物 |
专利性树枝状聚合物 Dendrimer |
| 对膜的污染影响 |
因阻垢分子本身也可与膜表面生成氢键链接而导致膜的污堵 |
树枝状聚合物Dendrimer与膜不会发生任何链接反应 |
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| 加药过量会否堵膜 |
会 |
不会 |
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| 最大加药量限制 |
不于5PPM |
小于5PPM |
无限制，最高可达1000PPM以上对膜也无任何伤害 |
| 最大加药量限制原因 |
由于其本质为较原始的螯和掩蔽，故会有大量微晶体生成，当加药量大于5PPM时，微晶体在膜表面形成冻胶状排列，加速污染
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Dendrimer所特有的分子几何构造完全防止微晶产 生 ，在膜面不会出现冻 胶状污染 |
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| 是否会导致微生物污染 |
部分可能 |
含磷阻垢剂是细菌极佳营养源，会导致膜内长菌 |
不会 |
| PWT阻垢剂 还具有的 更多独特 优势 |
1.完整的产品范围，所有药剂相互兼容，与水完相溶，可混合于一点注入。 2.所有反渗透阻垢产品均通过ANSI/NSF-Standard-60认证用于反渗透在线抑菌剂。 3.唯一11倍超浓缩液包装，节约大量储运成本，降低工人操作强度。 4.美国NASA从2367中产品唯一选择用于宇航飞船及太空站上水处理系统的反渗透药剂。 5.为配合中国市场推广而采取的特大优惠让利，成为现在市场性价比最高，阻垢机理最先进，使用最安全的反渗透系统首选化学产品，为客户节约更多成本。 |
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